氣相法生產活性氧化鎂工藝流程?

氣相法是指兩種氣相之間或一種氣相和一種固體之間的反應,例如讓鎂蒸汽和氧氣劇烈反應,可以得到晶型不夠完整,但是活性比較高的活性氧化鎂。當然這種方法也可以用來生產納米氧化鎂,例如用鎂蒸汽和氧氣進行氣相反應制得矩形或立方形納米晶體氧化鎂,氧化鎂晶體的晶格參數為4.211—4.214A,粒徑為50—400nm。粒徑隨氧氣分壓與鎂蒸汽分壓之比的增大及反應溫度的升高而減小。

這種氣相之間的反應產物品質決定於原料的質量和反應條件,例如使用高純度的金屬鎂和高純氧氣,可以得到99.999%的氧化鎂,雜質的含量可以達到10-6以下,是生產高純度電子級氧化鎂的重要手段。但這種工藝生產的氧化鎂活性偏低,也不適合生產大規模應用的低附加值產品。

將金屬鎂粉與氧氣混合,使鎂粉懸浮與氧氣中,其中鎂粉濃度>(20—100)g/m3,將混合氣導入空氣和過氧化氫混合氣中,點燃進行爆炸式燃燒,將產生的氧化鎂進行自然冷卻並收集,氧化鎂產品為球形,粒度在10—100nm。

氣凝膠法也是生產活性氧化鎂的工藝之一,其中主要是生產納米氧化鎂。原料可以是烷氧基鎂,例如把甲醇轉化為氫氧化鎂凝膠的溶膠—凝膠,經超臨界乾燥和真空脫水,得到粒徑小,活性高的氧化鎂。此法制得的氧化鎂具有非常高的表面化學活性,可作為高效解離吸附劑,吸附有毒化學物質,如:含有機磷化合物和酸性氣體等,廣泛應用於環境保護領域。