冬春時節大棚桃樹怎樣管理

　　桃樹想必大家對都不會感到很陌生，現在很多地方也在利用大棚來種植桃子?冬春大棚種植桃子你瞭解多少?所以今天小編在這裡就要為大傢俱體講解一下冬春有關大棚桃樹種植的知識，希望可以可以讓你更好的瞭解桃樹。

　　大棚桃樹冬春管理技術

　　大棚栽培桃必須經過一定的低溫時間，滿足其需冷量後，才可升溫解除休眠。大棚栽培桃樹，必須進行人工強制休眠，使桃樹通過一系列的低溫鍛鍊，完成生理上變化後，才能正常地萌發、生長、開花、結果。

　　升溫時的管理

　　一、病蟲害防治 開始升溫時先噴一次殺蟲劑，殺死越冬紅蜘蛛、蚜蟲等害蟲，注意噴灑要均勻。發芽初期噴灑3～5波美度石硫合劑，把病菌全部滅掉。

　　二、土、肥、水管理 升溫後10天內進行施肥、澆水。如果未施基肥或基肥不足，升溫後可追施1次有機肥，再配合施用少量複合肥，施肥後灌1次大水，把地澆透，待土壤稍干時進行1次鬆土。

　　三、覆蓋地膜 覆蓋地膜的目的是提高地溫。

　　催芽期棚內溫、溼度管理

　　一、溫度管理 開始時溫度不能升得過快過高。如果升溫過快，溫度過高，會造成桃樹萌芽快，開花快，常出現先芽後花的倒序現象，使葉芽優先爭奪貯藏的養分，導致其坐果率降低，嚴重影響其幼果的發育和膨大，造成幼果早期脫落。升溫分3步進行，第一步，白天只拉起1/3的草苫，隔兩個拉一個，使棚溫白天保持在13℃～15℃，夜間保持在6℃～8℃，這樣維持2～3天。第二步，白天拉起1/2的草苫，隔一個拉一個，棚溫白天保持16℃～18℃，夜間保持7℃～10℃，持續2～3天。第三步，白天拉起全部草苫，溫度過高時，開啟頂部放風口通風降溫，使棚溫白天保持在20℃～23℃，夜間保持在7℃～10℃。

　　二、溼度管理 大棚內空氣相對溼度保持在70%～80%，這樣有利於其萌芽。若溼度過大，可以通過通風換氣，控制澆水或覆蓋地膜來調節;溼度過小，可在地面和樹體上灑水、噴霧或澆水來增加溼度。

　　萌芽期溫、溼度的管理

　　一、溫度管理 大棚栽培桃樹，溫度調控非常重要。溫度過低桃樹根系活動受阻，樹體萌芽晚;溫度過高，葉芽萌發早，先葉後花，影響坐果。萌芽期白天最高溫度25℃，夜晚最低溫度0℃，此期溫度的調控方法是扣嚴棚膜，關閉通風口，白天拉起草苫見光升溫，夜間蓋好草苫保溫。塑料大棚內的溫度主要靠日光來增溫，靠開關通風口和蓋揭草苫等來調控溫度。從萌芽至開花期，白天溫度保持在10℃～18℃，夜間保持在5℃以上。

　　二、溼度管理 大棚內溼度包括土壤溼度和空氣溼度。由於棚內多數時間處於密閉狀態，空氣溼度容易過高，土壤溼度可通過灌水來調節，空氣溼度可採取通風換氣來調節。當大棚內溼度超過80%時，在不影響溫度的情況下，可採用通風降溼的方法來進行調節。另外還可通過灌水控制，以降低溼度。如果土壤乾旱，灌水後可進行地膜覆蓋，也可採取分次輪流穴灌進行控制，最好採取膜下灌溉。

　　開花期的溫、溼度管理

　　一、溫度管理 此期的溫度調控非常重要。如溫度過高，影響其坐果;溫度過低，開花不整齊，花期延長，嚴重時花器受凍。花期適宜的溫度為：始花期白天溫度控制在19℃～21℃，不得超過25℃，夜間控制在5℃～7℃，盛花期白天溫度在20℃左右，夜間最低為5℃，大棚栽培桃樹，必須進行人工輔助授粉。大棚內溫度最高的時間在白天上午10時至下午3時，此時如果溫度超過25℃，就要開啟風口進行通風降溫;如果溫度降低緩慢，還可以臨時放下少量草苫遮陽來控制溫度，但必須經常更換位置，以防棚內樹體光照和受熱不均。棚內氣溫與地溫是互相影響的，對桃樹生長髮育有同等重要作用。只有桃樹生長的地溫與氣溫一致，才能保證根系能正常生長，吸收水分和養分，供給樹體的開花和結果。

　　二、溼度的調控 空氣溼度，花期要控制在50%～60%，落花期控制在60%以下，控制溼度的方法是放風排溼。在花前澆水後覆膜，花期儘量不澆水。

　　萌芽開花期的光照管理

　　桃樹喜光性極強。大棚栽培桃樹生產在冬季這段時間內，太陽光照在全年當中最弱，加上栽培環境與自然界相比，植株生長繁茂，通風透光較差，光照強度較弱，常常不能滿足桃樹的生長髮育的需要，難以達到優質、高產、高效的目的。因此，必須採取有效的增光技術措施，提高棚內光照質量，促進葉片的光合作用。

　　一、選擇透光效能好的棚膜 生產經驗證明，聚乙烯膜優於聚氯乙烯膜，無滴膜優於有滴的普通膜，無滴薄膜透光率是目前較好的，且應用較多的棚膜。

　　二、合理密植 合理的栽培密度和良好的群體結構，表現為在生長季節枝枝見光。

　　三、清掃棚膜 經常清掃棚膜上的草苫落葉和灰塵，以增加透光度。

　　大棚桃樹早春管理

　　大棚栽培桃必須經過一定的低溫時間，滿足其需冷量後，才可升溫解除休眠。大棚栽培桃樹，必須進行人工強制休眠，使桃樹通過一系列的低溫鍛鍊，完成生理上變化後，才能正常地萌發、生長、開花、結果。

　　升溫時的管理

　　一、病蟲害防治開始升溫時先噴一次殺蟲劑，殺死越冬紅蜘蛛、蚜蟲等害蟲，注意噴灑要均勻。發芽初期噴灑3—5波美度石硫合劑，把病菌全部滅掉。

　　二、土、肥、水管理升溫後10天內進行施肥、澆水。如果未施基肥或基肥不足，升溫後可追施1次有機肥，再配合施用少量複合肥，施肥後灌1次大水，把地澆透，待土壤稍干時進行1次鬆土。

　　三、覆蓋地膜覆蓋地膜的目的是提高地溫。

　　催芽期棚內溫、溼度管理

　　一、溫度管理開始時溫度不能升得過快過高。如果升溫過快，溫度過高，會造成桃樹萌芽快，開花快，常出現先芽後花的倒序現象，使葉芽優先爭奪貯藏的養分，導致其坐果率降低，嚴重影響其幼果的發育和膨大，造成幼果早期脫落。升溫分3步進行，第一步，白天只拉起1/3的草苫，隔兩個拉一個，使棚溫白天保持在13℃—15℃，夜間保持在6℃—8℃，這樣維持2—3天。第二步，白天拉起1/2的草苫，隔一個拉一個，棚溫白天保持16℃—18℃，夜間保持7℃—10℃，持續2—3天。第三步，白天拉起全部草苫，溫度過高時，開啟頂部放風口通風降溫，使棚溫白天保持在20℃—23℃，夜間保持在7℃—10℃。

　　二、溼度管理大棚內空氣相對溼度保持在70%—80%，這樣有利於其萌芽。若溼度過大，可以通過通風換氣，控制澆水或覆蓋地膜來調節;溼度過小，可在地面和樹體上灑水、噴霧或澆水來增加溼度。

　　萌芽期溫、溼度的管理

　　一、溫度管理大棚栽培桃樹，溫度調控非常重要。溫度過低桃樹根系活動受阻，樹體萌芽晚;溫度過高，葉芽萌發早，先葉後花，影響坐果。萌芽期白天最高溫度25℃，夜晚最低溫度0℃，此期溫度的調控方法是扣嚴棚膜，關閉通風口，白天拉起草苫見光升溫，夜間蓋好草苫保溫。塑料大棚內的溫度主要靠日光來增溫，靠開關通風口和蓋揭草苫等來調控溫度。從萌芽至開花期，白天溫度保持在10℃—18℃，夜間保持在5℃以上。

　　二、溼度管理大棚內溼度包括土壤溼度和空氣溼度。由於棚內多數時間處於密閉狀態，空氣溼度容易過高，土壤溼度可通過灌水來調節，空氣溼度可採取通風換氣來調節。當大棚內溼度超過80%時，在不影響溫度的情況下，可採用通風降溼的方法來進行調節。另外還可通過灌水控制，以降低溼度。如果土壤乾旱，灌水後可進行地膜覆蓋，也可採取分次輪流穴灌進行控制，最好採取膜下灌溉。

　　大棚桃樹採果後的管理

　　大棚桃樹果實採收後，葉片光合作用製造的養分不再用於果實生長消耗，而是用於花芽分化，枝幹加粗、組織成熟和營養物質積累。應該說桃果採收後並不是當年生產夢理的結束，而是爭取翌年豐收的開始。因此加強果實採收後的管理非常重要。

　　主要抓好以下幾項工作：

　　一、採後修剪：

　　1、揭棚後修剪。大棚桃樹果實一般幹5月下旬便可採收完畢。揭棚後，桃樹仍繼續生長，並進行花芽分化。值得注意的是，在大棚內形成的梢段不能進行正常的花芽分化，只有棚解形成的新梢段才能進行花芽分化和花芽孕育。所以揭棚後必須對棚內形成的梢段進行修剪，培養新的結果母枝：應立即剪除病蟲枝和徒長枝;適度剪截骨幹枝的延長新梢;其餘的新梢進行重短截，促發副梢形成果枝。

　　2、夏季修剪，6月上旬和8月中旬是桃樹旺盛生長時期和花芽分化期。此期修剪首先要在新梢長到30cm左右時進行摘心，共摘心 2-3次。二是對過密枝進行疏除，有空間的直立新梢進行扭梢。三是拉枝，特別是栽植第1年的樹。其目的是創造良好的通風透光條件，控制旺長，以利花芽形成。

　　3、休眠期修剪，11月中旬對樹體進行休眠期修剪。此期採用短截和疏枝相結合的方法。骨幹延長枝一般剪留30一40cm;花束狀結果枝只疏不截;密生長果枝要疏直留斜;結果枝組要注意更新復壯，使極組保持中庸健壯。

　　二、來后土肥水管理：

　　1、葉面噴肥，其目的是為了增加葉片的同化功能，增加樹體營養貯藏，促進花芽分化，提高花芽質量。每5-7天噴1次，可單獨噴施，亦可結合噴藥噴施，配方是 0.3%尿素+0.3%磷酸二氫鉀+0.2%光合微肥。

　　2、灌水和排水，桃樹是耐旱怕澇樹種，揭棚後，自然降雨後要及時排水，防止澇害發生。但土壤過干時，應注意輕灌水，保證一定的土壤溼度。

　　3、中耕除草，每次灌水後要及時鬆土保墒，清除樹盤雜草，以增加土壤通透性，活化根系生理機能，促進報系生長。

　　4、合理施肥，採果後，可及時施入充分腐熟的有機肥，有機肥要破碎細小，與土混勻，並摻入適量的過磷酸鈣，鋅肥、硼肥，施肥後澆1次大水。

　　三、採後病由害防治

　　1、病害，大棚桃樹栽培主要病害有細菌性穿孔病，褐斑穿孔病，霜黴病等，但較露天栽培輕的多。防治時可用常規殺菌藥如代森鋅，甲基託布津，多菌靈等交替使用，濃度一般為600-80倍。

　　2、蟲害，發生較為普遍和嚴重的是桃蚜、粉蚜、瘤蚜。可用菊酯類的快靈、萬靈、快殺靈和敵殺死等藥物防治，嚴禁使用有機磷農藥。

　　3、蟎類，在棚內較少發生，揭棚後可大量發生，可用掃蠟淨，尼索朗尋藥物防治，濃度一般為1000-2000倍。