多晶硅還原爐?

多晶硅還原爐的參數

還原爐裡面是用純的氫氣以及三氯氫硅，在1100°條件左右進行反應，生成的硅沉積在硅棒表面，慢慢的生長，一般都要72小時以上時間不間斷的供料供電。爐壁式夾層，用循環水進行冷卻。

西門子法多晶硅還原爐不同爐型號的優缺點是什麼？0

36對棒的爐子電子級的成品率低

請教一下關於多晶硅還原爐高壓擊穿及相關操作？

高溫擊穿是還原爐中硅芯啟動的一種方式，硅芯是半導體，通過加熱改變半導體的電阻率，使其成為導體。 還原爐中硅芯啟動的另一種方式是高壓擊穿，是通過電壓改變半導體的電阻率，使其成為導體

多晶硅還原爐有什麼危險嗎

還原爐裡面是用純的氫氣以及三氯氫硅，在1100°條件左右進行反應，生成的硅沉積在硅棒表面，慢慢的生長，一般都要72小時以上時間不間斷的供料供電。爐壁式夾層，用循環水進行冷卻。

但是我不知道硅液溢流是什麼情況？？呵呵 除非是爐子裡面溫度1300以上時，硅棒才可能融，但是也不能溢流吧？

危險就是氫氣可能洩露，引起爆炸，還有就是溫度過高，小心壓力不要太大；爐壁的水千萬不能漏在爐子裡面，要不然有點危險。其它的來說，沒有太多可怕的吧！）

多晶硅氫化爐與多晶硅還原爐是一樣的爐子嗎？用的熱場材料分別是什麼材質的？

肯定是不一樣的啊。不過爐子的外形結構是一樣的，不過作用和具體構造肯定是不一樣的。

還原爐，就是鄲硅芯至於石墨夾頭中，而石墨夾頭放在銀電極上，通過高壓擊穿硅芯，使三氯氫硅被氫氣還原出來的硅在硅芯上面均勻的生長。

而氫化爐則是通過炭炭加熱體加熱使四氯化硅被氫氣還原為三氯氫硅。

大體答案是這樣的

多晶硅還原爐如何清洗Si，除了熱鹼液和高壓水清洗還有其他方法嗎？有幹法清洗嗎？謝謝！

還有酸，我做過這個項目。因為是保密項目，所以只能告訴你酸

什麼是多晶硅還原工藝?

這就看你是用什麼工藝了，比如西門子法、硅烷法等具體的我不好洩露了

多晶硅的生產工藝流程及有關設備有哪些？

不曉得你們廠子採用的是什麼工藝，不過多晶硅最主要的工藝包括，三氯氫硅合成、四氯化硅的熱氫化（有的採用氯氫化），精餾，還原，尾氣回收，還有一些小的主項，制氫、氯化氫合成、廢氣廢液的處理、硅棒的整理等等。

主要反應包括：Si+HCl---SiHCl3+H2（三氯氫硅合成）;SiCl4+H2---SiHCl3+HCl（熱氫化）;SiHCl3+H2---SiCl4+HCl+Si（還原）

涉及的東西太多，簡單的幾句話沒法說完，建議你去海川化工論壇去看看，那裡面有一個多晶硅技術專區