多晶硅是什麼東西?
多晶硅 是什麼?幹什麼用的?
多晶硅;polycrystalline silicon
性質:灰色金屬光澤。密度2.32~2.34。熔點1410℃。沸點2355℃。溶於氫氟酸和硝酸的混酸中,不溶於水、硝酸和鹽酸。硬度介於鍺和石英之間,室溫下質脆,切割時易碎裂。加熱至800℃以上即有延性,1300℃時顯出明顯變形。常溫下不活潑,高溫下與氧、氮、硫等反應。高溫熔融狀態下,具有較大的化學活潑性,能與幾乎任何材料作用。具有半導體性質,是極為重要的優良半導體材料,但微量的雜質即可大大影響其導電罰。電子工業中廣泛用於製造半導體收音機、錄音機、電冰箱、彩電、錄像機、電子計算機等的基礎材料。由乾燥硅粉與乾燥氯化氫氣體在一定條件下氯化,再經冷凝、精餾、還原而得。
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多晶硅是用來做什麼的?
主要做太陽能電池板,也是當代人工智能、自動控制、信息處理、光電轉換等半導體器件的電子信息基礎材料,多晶硅是很好的半導體。
什麼是多晶硅?
名 稱: 單晶硅
英文名: Monocrystalline silicon
分子式: Si
硅的單晶體。具有基本完整的點陣結構的晶體。不同的方向具有不同的性質,是一種良好的半導材料。純度要求達到99.9999%,甚至達到99.9999999%以上。用於製造半導體器件、太陽能電池等。用高純度的多晶硅在單晶爐內拉制而成。
熔融的單質硅在凝固時硅原子以金剛石晶格排列成許多晶核,如果這些晶核長成晶面取向相同的晶粒,則這些晶粒平行結合起來便結晶成單晶硅。單晶硅具有準金屬的物理性質,有較弱的導電性,其電導率隨溫度的升高而增加,有顯著的半導電性。超純的單晶硅是本徵半導體。在超純單晶硅中摻入微量的ⅢA族元素,如硼可提高其導電的程度,而形成p型硅半導體;如摻入微量的ⅤA族元素,如磷或砷也可提高導電程度,形成n型硅半導體。單晶硅的製法通常是先製得多晶硅或無定形硅,然後用直拉法或懸浮區熔法從熔體中生長出棒狀單晶硅。單晶硅主要用於製作半導體元件。
用途: 是製造半導體硅器件的原料,用於制大功率整流器、大功率晶體管、二極管、開關器件等
單晶硅是一種比較活潑的非金屬元素,是晶體材料的重要組成部分,處於新材料發展的前沿。其主要用途是用作半導體材料和利用太陽能光伏發電、供熱等。由於太陽能具有清潔、環保、方便等諸多優勢,近三十年來,太陽能利用技術在研究開發、商業化生產、市場開拓方面都獲得了長足發展,成為世界快速、穩定發展的新興產業之一。
單晶硅建設項目具有巨大的市場和廣闊的發展空間。在地殼中含量達25.8%的硅元素,為單晶硅的生產提供了取之不盡的源泉。
近年來,各種晶體材料,特別是以單晶硅為代表的高科技附加值材料及其相關高技術產業的發展,成為當代信息技術產業的支柱,並使信息產業成為全球經濟發展中增長最快的先導產業。單晶硅作為一種極具潛能,亟待開發利用的高科技資源,正引起越來越多的關注和重視。
多晶硅的用途是什麼
多晶硅分為電子級和太陽能級。
先說太陽能級的,是作為太陽能產業鏈的原料,用於鑄錠或拉單晶硅棒,在切成硅片,生產成太陽能電池板,就是衛星、空間站上的太陽能帆板,大部分還是用在建太陽能電站了,國內的太陽能電站很少,很為他雖然環保綠色,但成本很高,電費貴,往往需要政府補貼,歐洲是全球使用太陽能最多的,也是中國太陽能攻池板主要的銷售方向。
電子級多晶硅用於生產半導體材料,主要用於電子設備,芯片上用的比較多。
多晶硅的用途是什麼?
多晶硅的需求主要來自於半導體和太陽能電池。 多晶硅的最終用途主要是生產集成電路、分立器件和太陽能電池片。
單晶硅和多晶硅有什麼區別
多晶硅是生產單晶硅的直接原料,是當代人工智能、自動控制、信息處理、光電轉換等半導體器件的電子信息基礎材料。被稱為“微電子大廈的基石”。
在太陽能利用上,單晶硅和多晶硅也發揮著巨大的作用。雖然從目前來講,要使太陽能發電具有較大的市場,被廣大的消費者接受,就必須提高太陽電池的光電轉換效率,降低生產成本。從目前國際太陽電池的發展過程可以看出其發展趨勢為單晶硅、多晶硅、帶狀硅、薄膜材料(包括微晶硅基薄膜、化合物基薄膜及染料薄膜)。
從工業化發展來看,重心已由單晶向多晶方向發展,主要原因為;[1]可供應太陽電池的頭尾料愈來愈少;[2] 對太陽電池來講,方形基片更合算,通過澆鑄法和直接凝固法所獲得的多晶硅可直接獲得方形材料;[3]多晶硅的生產工藝不斷取得進展,全自動澆鑄爐每生產週期(50小時)可生產200公斤以上的硅錠,晶粒的尺寸達到釐米級;[4]由於近十年單晶硅工藝的研究與發展很快,其中工藝也被應用於多晶硅電池的生產,例如選擇腐蝕發射結、背表面場、腐蝕絨面、表面和體鈍化、細金屬柵電極,採用絲網印刷技術可使柵電極的寬度降低到50微米,高度達到15微米以上,快速熱退火技術用於多晶硅的生產可大大縮短工藝時間,單片熱工序時間可在一分鐘之內完成,採用該工藝在100平方釐米的多晶硅片上作出的電池轉換效率超過14%。據報道,目前在50~60微米多晶硅襯底上製作的電池效率超過16%。利用機械刻槽、絲網唬刷技術在100平方釐米多晶上效率超過17%,無機械刻槽在同樣面積上效率達到16%,採用埋柵結構,機械刻槽在130平方釐米的多晶上電池效率達到15.8%
單晶硅和多晶硅的區別是,當熔融的單質硅凝固時,硅原子以金剛石晶格排列成許多晶核,如果這些晶核長成晶面取向相同的晶粒,則形成單晶硅。如果這些晶核長成晶面取向不同的晶粒,則形成多晶硅。多晶硅與單晶硅的差異主要表現在物理性質方面。例如在力學性質、電學性質等方面,多晶硅均不如單晶硅。多晶硅可作為拉制單晶硅的原料。單晶硅可算得上是世界上最純淨的物質了,一般的半導體器件要求硅的純度六個9以上。大規模集成電路的要求更高,硅的純度必須達到九個9。目前,人們已經能製造出純度為十二個9 的單晶硅。單晶硅是電子計算機、自動控制系統等現代科學技術中不可缺少的基本材料
多晶硅都有什麼規格? 30分
多晶硅有電子級與太陽能級等規格。下面上太陽能級的規格。
多晶硅(polycrystalline silicon)有灰色金屬光澤,密度2.32~2.34g/cm3。熔點1410℃。沸點2355℃。溶於氫氟酸和硝酸的混酸中,不溶於水、硝酸和鹽酸。硬度介於鍺和石英之間,室溫下質脆,切割時易碎裂。加熱至800℃以上即有延性,1300℃時顯出明顯變形。常溫下不活潑,高溫下與氧、氮、硫等反應。高溫熔融狀態下,具有較大的化學活潑性,能與幾乎任何材料作用。具有半導體性質,是極為重要的優良半導體材料,但微量的雜質即可大大影響其導電性。電子工業中廣泛用於製造半導體收音機、錄音機、電冰箱、彩電、錄像機、電子計算機等的基礎材料。由乾燥硅粉與乾燥氯化氫氣體在一定條件下氯化,再經冷凝、精餾、還原而得。
多晶硅生產的原料是什麼?
多晶硅生產的原料是 三氯氫硅 和氫氣 按照一定的比例計入還原爐內進行熱分解 和 還原反應 產生多晶硅棒.
三氯氫硅是用氯化氫和工業硅粉在合成爐內反應生成,
氯化氫是用氫氣和氯氣在氯化儲合成爐內燃燒生成.
氯氣是氯化鈉工業鹽水通過通電反應生成
氫氣即可以用氯化鈉工業鹽水通過通電反應生成
也可以用水通電電解生產.
工業硅粉是用石英礦與碳在通電的情況下還原反應生成工業硅塊,經粉碎變成工業硅粉.